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2nm战局胶着!日本Rapidus逻辑密度与台积电N2不相上下:超越Intel 18A

时间:2025-09-01 10:58:50
  • 来源:快科技
  • 作者:黑白
  • 编辑:一只小编辑OVO

日本Rapidus正推进其2nm工艺,有报道首次披露了该节点的逻辑密度,据称与台积电的N2相当。

据透露,Rapidus的2HP工艺节点的逻辑密度达到了237.31百万晶体管/平方毫米(MTr/mm?),与台积电N2工艺的236.17 MTr/mm?相当。

这一数据表明,Rapidus的2HP工艺在逻辑密度上与台积电的N2工艺处于同一水平线,甚至在某些方面更具优势。

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相比之下,英特尔的18A工艺的逻辑密度为184.21 MTr/mm?,明显低于Rapidus和台积电的水平。

Rapidus的2HP工艺采用了高密度(HD)单元库,单元高度为138单位,基于G45间距,这种设计旨在实现最大逻辑密度。

而英特尔更注重性能/功耗比,因此更高的密度并非其主要目标,特别是18A工艺主要用于内部使用。

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此外,Rapidus采用了单片前端处理技术,可专注于对有限生产量进行调整,并将改进成果扩展到最终产品中,Rapidus计划在2026年第一季度向客户提供其2nm工艺设计套件。

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